지원자님 질문 수준이 딱 현업 구조를 어느 정도 알고 들어가려는 단계라서 좋네요! Diff 분임조 구조는 외부에 정리된 자료가 거의 없어서 헷갈리는 게 정상입니다. 말씀 주신 것처럼 LP / HP / MP는 확산(Diffusion) 공정을 온도·압력·공정 특성 기준으로 나눈 내부 운영 단위라고 보시면 가장 이해가 쉽습니다~
먼저 LP 분임조부터 정리하면, 지원자님이 알고 계신 내용이 맞습니다. LP는 Low Pressure Diffusion 계열, 즉 LPCVD 기반 공정을 주로 담당하고, Poly-Si, SiN, 일부 Oxide 증착이나 고온 열처리 계열이 포함됩니다. 장비는 주로 **TEL 계열(LPCVD, Vertical Furnace)**이 중심이고, 배치형 퍼니스, 장시간 고온 공정, 막질 균일도·두께·도핑 균일도 관리가 핵심 이슈입니다. 공정 안정성은 높은 편이지만, 한 번 틀어지면 영향 범위가 커서 관리 난이도가 있는 쪽이에요.
HP 분임조는 말 그대로 High Pressure / High Temperature Diffusion 계열을 담당합니다. 전통적인 확산 도핑 공정(Boron, Phosphorus 계열), 고온 산화(Oxidation), Drive-in 공정 등이 여기에 많이 포함됩니다. 퍼니스 기반이지만 LP보다 공정 목적이 “막 증착”보다는 “전기적 특성 형성”에 더 가깝다고 보시면 됩니다. Sheet Resistance, Junction Depth, 활성화 효율 같은 전기적 파라미터와 직결돼서, 소자 특성과의 연계성이 굉장히 큰 분임조입니다. 장비 역시 TEL 퍼니스 계열이 주력이지만, 공정 조건과 관리 포인트는 LP와 성격이 꽤 다릅니다.
MP 분임조는 질문하신 분들 중에서도 가장 헷갈려 하시는 파트인데요, MP는 Medium Pressure / Multi-purpose Diffusion 계열로 이해하시면 됩니다. 단순히 압력만 중간이라는 개념보다는, RTP(Rapid Thermal Process), Spike Anneal, 단시간 열처리 계열이 많이 묶여 있는 분임조라고 보시는 게 맞아요. 단시간·고온·고정밀 열처리가 핵심이라서, 공정 윈도우가 좁고 변동성 관리가 중요합니다. 장비는 TEL 외에도 세대나 라인에 따라 다른 벤더 RTP 장비들이 섞여 있는 경우가 많고, 공정-소자-계측 연계가 굉장히 타이트한 쪽입니다.